Popis produktů

Zirconium sputtering target

Cíl zirkonia jako základní materiál v technologii povlaku rozprašování, jeho průmyslová segmentace a aplikace aplikací vykazují vysoce kvalitní profesionalitu a rozmanitost. Z pohledu klasifikace průmyslu zahrnuje nesprávný cílový průmysl nejen produkci, zpracování a prodej materiálů, ale také se rozšiřuje na optimalizaci materiálového výkonu a zlepšení přizpůsobivosti procesu. Tento trend diferenciace nejen splňuje specifické potřeby různých průmyslových odvětví pro cílové materiály, ale také podporuje nepřetržitý pokrok celkové technické úrovně odvětví. Podle klasifikace aplikačních polí je široká aplikace cílů zirkonia důležitým ztělesněním jeho průmyslových charakteristik. V oblasti polovodiče je vysoce čistý cíl velkého zirkonia klíčovým materiálem pro výrobu pokročilých integrovaných obvodů, který hraje nenahraditelnou roli při zlepšování výkonnosti čipů a zajištění stability procesu. Například průlom provedený novým materiálem Youyan ve velkém ultra-vysokofrekvenčním cíli měděné slitiny používaný v pokročilém výrobním procesu integrovaných obvodů nejen prošel ověřením prvotřídních podniků, ale také dosáhl dávkové dodávky, což prokazuje základní hodnotu nesprávného cíle v semikonduktorovém poli. Podobně jsou displeje, solární články, magnetické materiály a optické filmy také velmi závislé na vynikajícím výkonu cílů zirkonia, aby se dosáhlo vyšší přesnosti a výkonu produktu.

Podle klasifikace čistoty čistota cíle zirkonu přímo ovlivňuje přesnost a kvalitu procesu povlaku. Cíle zirkonia s vysokou čistotou (čistota větší nebo rovná 99,999%) vykazují jedinečné výhody ve špičkové výrobě polovodičů, optických tenkých filmů a dalších polích. Různé cíle zirkonia čistoty prostřednictvím rafinovaného výrobního procesu a přísné kontroly kvality zajistí její stabilitu a spolehlivost v jejich příslušných aplikačních polích. Podle klasifikace tvaru konstrukce tvaru zirkonia plně zvažuje rozmanitost potahovacích zařízení a požadavků na procesy. Různé tvary, jako je plochý cíl, rotující cíl a cíl trubek, může nejen splňovat požadavky na instalaci a provoz různých povlakových zařízení, ale také dosáhnout rovnoměrnějšího efektu rozprašování během procesu povlaku, což zlepšuje kvalitu a účinnost povlaku.

Podrobnosti o parametru
Materiál s vysokou čistotou zirkonium (Zr), často 99,95% nebo vyšší čistota
Specifikace různé tvary: kruhové disky (průměr 50-600 mm, tloušťka 3-20 mm), obdélníkové desky, dostupné vlastní velikosti; Cílová hustota větší nebo rovná 99% teoretické hustoty
Vakuový obloukový roztavení výrobního procesu, metalurgie prášku (slinování a horké izostatické lisování), válcování a žíhání
Standardy jsou v souladu s ASTM B551, ISO 7158 pro materiály zirkonia; Vnitřní standardy kontroly kvality pro hustotu, čistotu a povrchovou úpravu
Aplikační oblasti polovodičové depozice tenkých filmů, optický povlak, výroba solárních článků, dekorativní povlak, výzkum a vývoj ve vakuových povlakových odvětvích

Shrnutí: Cíle zirkonia jsou základní materiály v průmyslu depozice tenkého filmu. Vyrobeny z vysoce čistého zirkonia přicházejí v různých tvarech a velikostech, aby vyhovovaly různým průmyslovým potřebám. Pokročilé výrobní procesy zajišťují vynikající fyzikální vlastnosti a konzistenci. Přísná dodržování mezinárodních a vnitřních standardů zaručuje spolehlivou kvalitu. Zirkoniové cíle, které jsou široce aplikovány v polovodičových, optických a solárních odvětvích, hrají klíčovou roli při vytváření vysoce výkonných tenkých filmů, což je činí nezbytné pro moderní povlakové technologie.